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半导体制程(支撑)材料

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三氟化氮

更新时间:2020-08-05 点击数:460

产品介绍:

        三氟化氮(NF3),是一种无色、无臭、性质稳定的气体,是一种强氧化剂。三氟化氮熔点为-206.8℃,沸点为-129.0℃,不溶于水。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体,在等离子蚀刻时裂解为活性氟离子,对硅和氮化硅蚀刻时,采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性,尤其是在厚度小于1.5μm的集成电路材料的蚀刻中,三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性,在被蚀刻物表面不留任何残留物,同时也是非常良好的清洗剂。

产品指标:


产品介绍:

        三氟化氮(NF3),是一种无色、无臭、性质稳定的气体,是一种强氧化剂。三氟化氮熔点为-206.8℃,沸点为-129.0℃,不溶于水。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体,在等离子蚀刻时裂解为活性氟离子,对硅和氮化硅蚀刻时,采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性,尤其是在厚度小于1.5μm的集成电路材料的蚀刻中,三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性,在被蚀刻物表面不留任何残留物,同时也是非常良好的清洗剂。

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